台積訂購最新High-NA曝光機

艾司摩爾High-NA曝光機，台積電已下單。圖／本報資料照片

在英特爾宣布未來將導入全球第一款量產型高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機後，業界傳出台積電也已下單。微影設備大廠艾司摩爾（ASML）19日在法人說明會中證實並指出，已接獲更多Hi gh-NA EUV曝光機EXE: 5200設備訂單，所有的EUV現有客戶都已下單訂購。

台積電已是全球擁有最大EUV產能的半導體廠，3奈米如期在下半年進入量產，2奈米研發進度亦略有提前。台積電2奈米採用奈米層片（Nanosheet）的環繞閘極電晶體（GAAFET）架構，業界傳出亦將首度採用High-NA EUV微影技術量產。

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台積電已在竹科寶山二期興建Fab 20超大型晶圓廠，將成為2奈米生產重鎮，共興建4座12吋廠，預計2024年下半年進入風險性試產，2025年進入量產。業界指出，台積電仍持續擴大採購EUV設備，包括明年下半年推出的NXE: 3800E及2025年推出NXE: 4000F新機型，同時已下單採購High-NA EUV曝光機。

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