EUV機台被砍單? 業界:不太可能

艾司摩爾預計19日舉行法人說明會,可望針對EUV曝光機已接訂單(backlog)變化提出說明。半導體生產鏈仍在進行庫存調整,市場傳出台積電可能在法人說明會中下修全年資本支出,加上記憶體廠放慢擴產計畫,將導致EUV曝光機訂單減少或延後,受此消息影響,EUV概念股家登、帆宣17日股價明顯有壓。

不過,業界人士對於EUV曝光機被砍單消息有所質疑,主要原因在於EUV設備是屬於訂製化生產,且設備系統交期長達12~15個月,所以採購EUV機台是屬於中長期的產能規劃,並不會因為短期的景氣循環波動而砍單。

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以目前主流的0.33數值孔徑(NA)來說,5奈米邏輯製程每片晶圓平均EUV光罩層逾10層,但3奈米邏輯製程每片晶圓平均EUV光罩層約將倍增達20層以上,而EUV機台每小時晶圓產出(throughput)提升緩慢,隨3奈米製程開始導入量產,反而需要更多機台因應產能提升及製程微縮,整體EUV產能仍供不應求。

業者表示,短期景氣循環衝擊半導體廠資本支出,但台積電、英特爾、三星等大廠在先進製程的投資並沒有縮減,所以EUV曝光機交期也沒有因近期景氣變動而縮短。目前業界普遍認為市場景氣下半年緩步復甦,明年進入新的成長循環,所以不太可能在這個時間點對EUV機台砍單。

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